Intel CEO全面拥抱EUV製程 会有重大升级

在10nm製程Intel的进度比预期晚了多年，很大一个原因跟EUV光刻机有关，Intel之前一直认为EUV技术不成熟，所以他们在10nm製程使用了四重曝光，量产难度大，导致10nm延期。

现在Intel的态度变了，对EUV光刻开始重视起来了，毕竟三星、台积电的EUV都量产几年了，Intel也将在7nm製程全面使用EUV光刻，只不过该製程也跳票了，预计2023年才能量产。在日前参加摩根大通的会议时，CEO表示Intel将全面拥抱EUV光刻，大家能够看到Intel对EUV进行多代重大改进，大家能看到电晶体管等级的重大改进。

从Intel的表态来看，他们对EUV很有信心，不同厂商手中EUV的发挥情况也不同，Intel这番表态暗示他们会对EUV做出重大改进，甚至能深入到电晶体管等级的升级改良。